該集成系統(tǒng)可以實(shí)時(shí)采集大量氣體(數(shù)據(jù))，備案直接將數(shù)據(jù)存儲(chǔ)在RRAM中，并在計(jì)算層對(duì)氣體進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)分類。這兩種技術(shù)為異質(zhì)材料的三維非均質(zhì)集成奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)，公告可以提高電子和光子元件在單個(gè)晶圓上的功能和效率。圖5.先進(jìn)的異質(zhì)外延技術(shù)在硅上異質(zhì)集成的實(shí)例類似的鐵電材料，服務(wù)Pb(Zr0.2Ti0.8)O3?(PZT)，服務(wù)也被外延生長(zhǎng)并轉(zhuǎn)移到晶體管上，以創(chuàng)建一個(gè)單晶PZT門控硅晶體管，允許通過(guò)PZT層的極化來(lái)控制通道電荷。
專項(xiàng)參考文獻(xiàn)：[1]HyunKum,etal.,NatureElectronics,2019,2,439–450.[2]J.Narayan,ActaMater.2013,61,2703–2724.[3]J.Narayan,J.Appl.Phys.2003,93,278–285.[4]H.Amano,Appl.Phys.Lett.1986,48,353–355.[5]A.Koma,J.Vac.Sci.Technol.B1985,3,724.[6]A.Koma,J.Cryst.Growth1999,201,236–241.[7]Q.Paduano,J.Mater.Res.2016,31,2204–2213.[8]K.Linthicum,et?al.,Appl.Phys.Lett.1999,75,196–198.[9]C.Gerhard,Appl.Sci.2018,8,1556.[10]D.Shahrjerdi,NanoLett.2013,13,315–320.[11]C.A.Sweet,et?al.,Appl.Phys.Lett.2016,108,011906.[12]?S.W.Bedell,etal.,J.Appl.Phys.2017,122,025103.[13]C.-W.Cheng,et?al.,Nat.Commun.2013,4,1577.[14]?Y.Kim,et?al.,Nature2017,544,340–343.[15]?S.W.Bedell,et?al.,J.Phys.D.2013,46,152002.[16]?J.Chun,J.et?al.,ScriptaMater.2014,77,13–16.[17]?V.Deshpande,et?al.,SolidStateElectron.2017,128,87–91.[18]V.Deshpande,et?al.,Tech.Dig.Int.ElectronDevicesMeet.2015,8.8.1–8.8.4.[19]?S.R.Bakaul,et?al.,Nat.Commun.2016,7,10547.[20]R.H.Kim,et?al.Nat.Mater.2010,9,929–937.[21]?K.Lee,etal.,LightSci.Appl.2015,4,e288.[22]?M.M.Shulaker,et?al.,Nature2017,547,74–78.本文由Nano-optic供稿。隨著機(jī)器學(xué)習(xí)和人工智能的發(fā)展，備案計(jì)算復(fù)雜度和內(nèi)存消耗不斷增加，而傳統(tǒng)的CMOS伸縮已經(jīng)達(dá)到了技術(shù)極限。
但是，公告由于激光激發(fā)時(shí)在界面處產(chǎn)生的誘導(dǎo)等離子體，使襯底表面產(chǎn)生了粗糙度，粗糙度范圍為60~90nm。
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