作為一種可行的方案,理工力市利用化學氣相沉積(CVD)技術(shù)構(gòu)建金屬化合物@類石墨烯碳層復合結(jié)構(gòu)引起了極大的興趣。氫能利用有多種形式,具切包括燃燒熱能、氫燃料電池或作為結(jié)構(gòu)材料的固體氫。入電水分解過程包括陰極析氫反應(HER)和陽極析氧反應(OER)兩部分。

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傳G場Ni3S2@NGCLs/NF以及Ni3S2@GCNs/NF的表面鎳和氮的價態(tài)如圖2(g)和圖2(h)所示。10毫安平方厘米時Ni3S2@GCNs/NF泡沫鎳和RuO2/NF的實際過電位也以相同的方式進行評估,發(fā)輸分別為398、381和368mV。

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特別是多層碳的類石墨烯結(jié)構(gòu)減緩了Ni3S2在電解液中的溶解,電管致使活性相組分(NiOOH)的可控形成。

理工力市圖3(a)顯示了掃描速率為5mV/s時這些樣品的線性伏安曲線。具切C=C-C鍵可能導致在284.66eV出現(xiàn)峰值。

如果采用金屬摻雜,入電則會出現(xiàn)晶體缺陷。傳G場N1s譜(圖3B)清楚地證明了氮原子存在于三種化學環(huán)境。

圖5:發(fā)輸光解制氫圖表:(A)CN(B)PCN-S-1(C)PCN-S-2(D)PCN-S-3(E)標準曲線?(F)峰面積與氫含量的關(guān)系曲線光催化制氫樣品的氣相色譜圖如圖4A,4B,4C,4D所示。原因是助催化劑可以作為產(chǎn)氫的活性點,電管光生電子將注入到助催化劑中,電管使光生載流子重新分布,從而使更多的活性載流子可以參與光催化反應,提高光催化活性。

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