1983年畢業(yè)于長春工業(yè)大學(xué),變電1984年留學(xué)日本,1990年獲東京大學(xué)博士,1990–1993年東京大學(xué)和國立分子科學(xué)研究所博士后。較歷2005年當(dāng)選中國科學(xué)院院士。英國物理學(xué)會會士,份增英國皇家化學(xué)會會士,中國微米納米技術(shù)學(xué)會會士。

甘肅省2023年預(yù)計變電規(guī)模較歷史最高年份增長350%

現(xiàn)任北京石墨烯研究院院長、甘肅規(guī)模高年北京大學(xué)納米科學(xué)與技術(shù)研究中心主任。長期從事新型光功能材料的基礎(chǔ)和應(yīng)用探索研究,省2史最在低維材料、納米光電子學(xué)等方面做出了開創(chuàng)性貢獻(xiàn)。

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其中,預(yù)計PES-SO3H層充當(dāng)功能層,PES-OHIm層充當(dāng)支撐層。

此外,變電聚電解質(zhì)水凝膠膜功能的良好可調(diào)性可系統(tǒng)地理解可控離子擴(kuò)散機(jī)理及其對整體膜性能的影響。二、較歷【成果掠影】納米級精確增材制造技術(shù)目前依賴于雙光子光刻,較歷盡管這種方法可以實(shí)現(xiàn)納米級結(jié)構(gòu),但對于大規(guī)模的實(shí)際應(yīng)用來說,它的運(yùn)行速度仍然太慢。

利用高速打印技術(shù)在約33分鐘內(nèi)制作面積為1cm2的大尺寸方形光柵,份增優(yōu)異打印速度將極大地促進(jìn)TPL技術(shù)在微納增材制造領(lǐng)域的實(shí)際大規(guī)模應(yīng)用。為此,甘肅規(guī)模高年浙江大學(xué)匡翠方教授、甘肅規(guī)模高年清華大學(xué)何向明教授和徐宏教授等展示了一種極其靈敏的光刻膠系統(tǒng),可以達(dá)到印刷速度7.77ms-1,比傳統(tǒng)的聚合物光刻膠快三到五個數(shù)量級。

省2史最具有優(yōu)異打印速度的高靈敏度光刻膠材料的設(shè)計將極大地促進(jìn)TPL技術(shù)在微納增材制造領(lǐng)域的實(shí)際大規(guī)模應(yīng)用。構(gòu)建基于多邊形激光掃描儀的TPL,預(yù)計實(shí)現(xiàn)77ms–1線性打印速度,獲得了LW為38nm的打印圖案。

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