清邀圖3不同表面處理對于不同材料表面接觸角的改變?2022TheAuthors圖4為最終的粘接性能（單搭接拉伸剪切性能）實驗曲線。推測是紋路擴大了復(fù)材與鋁合金的非相似性，新年把即粘接接頭兩端材料的不對稱性增強，對粘接有負(fù)面影響。愛帶圖2展示了噴砂處理(GB)對于復(fù)材表面形貌及化學(xué)組成分布的影響。

圖1丙酮清洗、相約等離子體處理后復(fù)材表面形貌SEM圖及元素分布EDS結(jié)果?2022TheAuthors圖2噴砂處理后表面形貌SEM圖及元素分布EDS結(jié)果?2022TheAuthors圖3展示了表面處理對于材料表面浸潤性的影響。航空航天領(lǐng)域常需使用輕質(zhì)高強材料，大潤如碳纖維增強復(fù)合材料、鋁合金等

粘接是一種較為理想的材料連接方法，汰漬不僅可規(guī)避一些其他方法中涉及鉆孔、汰漬高溫等過程對材料造成的損傷，而且對于異種材料粘接而言，引入膠層能夠杜絕異質(zhì)材料長期接觸產(chǎn)生的電化學(xué)腐蝕。

清邀圖5為測試時粘接失效后斷面的高清相片。底部圖顯示了由電子束照射的區(qū)域的放大圖，新年把示意了要觀察的電化學(xué)反應(yīng)（例如，金屬枝晶的形成）。

從上到下，愛帶其組成元素依次是硅晶片、SiNx、電解質(zhì)、電極、SiNx和硅晶片。圖2：相約光刻技術(shù)制備原位TEM液體池（liquidcell）過程中芯片的演變@2022SpringerNature圖3：相約光刻技術(shù)制備原位TEM液體池（liquidcell）過程中芯片演變的側(cè)視圖@2022SpringerNature圖4：原位TEM觀察和后原位表征（HAADF-STEM,EDS,4D-STEM）示意圖@2022SpringerNature圖5：應(yīng)用舉例：MoS2納米片鋰化和脫鋰的原位TEM觀察@2022SpringerNature圖6：應(yīng)用舉例：Ti平面上Na電沉積的原位TEM觀察@2022SpringerNature圖7：應(yīng)用舉例：Ti陽極上固體電解質(zhì)界面膜（SEI）的后原位表征（HADDF,EDS）@2022SpringerNature【成果啟示】總之，作者開發(fā)了一種制備原位液相TEM核心部件-液體池（liquidcell）的技術(shù)。

大潤【核心創(chuàng)新】開發(fā)了一種制備原位液相TEM核心部件-液體池（liquidcell）的技術(shù)（光刻技術(shù)）?！境晒佑啊拷?，汰漬香港城市大學(xué)（CityU）曾志遠(yuǎn)教授，汰漬麻省理工學(xué)院李巨教授等人，報道了使用納米制造技術(shù)（光刻技術(shù)）制備原位液相TEM核心部件-液體池（liquidcell）。