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微語錄精選0725:苦難是否是財(cái)富

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這個(gè)工作的主要研究目的是理解和量化TaON中同時(shí)存在的O2-和N3-陰離子空位擴(kuò)散障礙之間的競(jìng)爭(zhēng),財(cái)富以及該競(jìng)爭(zhēng)如何受到材料電荷狀態(tài)的影響。微語這也是氧雜質(zhì)擴(kuò)散的情況。

具體而言,錄精對(duì)于TaON中中性和低電荷缺陷,氧陰離子擴(kuò)散主導(dǎo)離子遷移率,而較高電荷狀態(tài)阻礙氧擴(kuò)散并同時(shí)降低氮擴(kuò)散勢(shì)壘。VacancyDiffusionBarriersinTaONandTa3N5Water-SplittingPhotocatalysts(J.Mater.Chem.A,2019,DOI:10.1039/c9ta02280e)本文由材料人學(xué)術(shù)組tt供稿,財(cái)富材料牛整理編輯。

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