由于反應(yīng)物對(duì)活性Cu中心的質(zhì)量傳輸限制,日本部分催化劑涂層的轉(zhuǎn)化率預(yù)計(jì)不能達(dá)到100%,而相對(duì)溫度的提高對(duì)這些區(qū)域的活性沒有明顯的影響。從圖3b和3f可以看到在加熱到300℃時(shí)得到一個(gè)清晰而顯著的氧化態(tài)梯度變化,公司從內(nèi)涂層(ROI1)向外涂層(ROI5)移動(dòng)時(shí)Cu(II)的含量大大減少。非常作者首次使用原位光譜斷層掃描技術(shù)將Cu-SSZ-13催化劑涂層的質(zhì)量傳輸限制以化學(xué)梯度的形式表現(xiàn)出來。

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另一方面,日本內(nèi)部區(qū)域(ROI1-2)的Cu(I)量較高是由于NO濃度較低,因此SCR率較低。然而,公司與其他研究相比,在300-400℃時(shí)也發(fā)現(xiàn)了Cu(I)*NH3或Cu(I)物種。

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因此,非常德國卡爾斯魯厄理工學(xué)院化學(xué)技術(shù)和聚合物化學(xué)研究所的ThomasL.Sheppard和Jan-DierkGrunwaldt采用原位硬X射線光譜層析技術(shù)來表征在整個(gè)載體涂層催化劑Cu-SSZ-13對(duì)氨選擇性催化還原NOx(NH3-SCR)作用。

實(shí)驗(yàn)過程中的光譜斷層掃描裝置如圖1a所示,日本是將用于穩(wěn)定的X射線透明支撐桿安裝在微觀XAS光束線中。研究人員研究了在50倍的鹽度梯度下,公司雙極膜的最大功率密度可達(dá)~6.2W/m2,比Nafion117高出13%。

非常2007年被聘為納米研究重大科學(xué)研究計(jì)劃仿生智能納米復(fù)合材料項(xiàng)目首席科學(xué)家。日本同年獲得化學(xué)領(lǐng)域和材料領(lǐng)域湯森路透高被引科學(xué)家獎(jiǎng)以及最具國際引文影響力獎(jiǎng)。

公司2009年當(dāng)選中國科學(xué)院院士。非常2017年獲得德國洪堡研究獎(jiǎng)(HumboldtResearchAward)。

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