總之,用希該工作是朝著高速、用希可擴展、成本效益的高性能器件制造技術(shù)邁出的重要一步,并為實現(xiàn)目前實驗室階段的OPV優(yōu)秀成果到大面積、商業(yè)太陽能器件的轉(zhuǎn)化提供了新的可能性。同時,倍優(yōu)標(biāo)方對高速處理中合適的相分離的控制以及已開發(fā)的處理對卷對卷(R2R)打印的適用性還鮮有關(guān)注。因此,系統(tǒng)下線如果保持器件的效率和穩(wěn)定性,發(fā)展與薄膜形成的形態(tài)控制相關(guān)的可擴展的高速涂覆過程對于實現(xiàn)OPV應(yīng)用的技術(shù)可行性至關(guān)重要。

支持綠氫規(guī)?;瘧?yīng)用!希倍優(yōu)1400標(biāo)方制氫系統(tǒng)下線!

c,支持制氫在不同涂覆速度下制造的BHJ和LbL結(jié)構(gòu)的MSP-PCE函數(shù)?2022SpringNature05【成果啟示】LbL處理可以促進光活性層的高速制造,同時保持良好的器件性能。c,綠氫從不同的氯仿溶液濃度(從上到下)刮涂得到的PM6:Y6、PM6:N3、PM6-Ir1:Y6和PTQ10:Y6的BHJ-DB(藍色)和LbL-DB器件的PCE。

支持綠氫規(guī)?;瘧?yīng)用!希倍優(yōu)1400標(biāo)方制氫系統(tǒng)下線!

c,規(guī)模在AM1.5G太陽模擬器的1個太陽照射下測量的BHJ-SC、BHJ-DB和LbL-DBOPVs的J-V特性。

d,用?;诓煌幚砑夹g(shù)的器件的EQE光譜不過,倍優(yōu)標(biāo)方這種威脅是不是能影響到Elsevier也不好說。

開放獲取可以讓全球的科研工作者不用付費訂閱期刊即可讀到作者的研究,系統(tǒng)下線對于提高作者引用有很大幫助。因此,支持制氫也就出現(xiàn)了Sci-Hub的網(wǎng)址東躲西藏的局面。

同樣,綠氫Sci-Hub也是屢次遭到期刊出版商的起訴,也無一例外敗訴。統(tǒng)計顯示,規(guī)模近9000種SCI期刊中,OA期刊的比例僅為10.5%,特別是SCI期刊品種數(shù)最多的美國,OA期刊的比例僅為4.3%。

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