面對競爭日益激烈的環(huán)境和瞬息萬變的市場行情，通人尼爾科達(dá)集團(tuán)董事長、一方樹品牌創(chuàng)始人隋明東在下午的圓桌會議上分享了自己的見解。在創(chuàng)新方面，不要一方樹將不斷引入新技術(shù)、不要新工藝、新材料，以滿足消費(fèi)者日益增長的需求;在健康方面，一方樹將堅持使用環(huán)保材料，減少對環(huán)境的污染;在藝術(shù)方面，一方樹的產(chǎn)品設(shè)計將融入更多藝術(shù)元素，為消費(fèi)者提供別具一格的美學(xué)體驗(yàn)。本次代理商聯(lián)盟啟動會，事情不僅讓與會者深入了解了尼爾科達(dá)集團(tuán)和一方樹的環(huán)保理念和品牌文化，事情還讓代理商們感受到了品牌對于合作伙伴的重視和支持。

他強(qiáng)調(diào)：微語萬資一方樹正是通過創(chuàng)新和環(huán)保理念，打破了傳統(tǒng)格局，滿足了消費(fèi)者對高品質(zhì)生活的追求。它意味著不斷探索、錄精勇于創(chuàng)新，把品質(zhì)和用戶體驗(yàn)放在第一位。

先進(jìn)的自動化設(shè)備，選0想千一絲不茍地完成每一個生產(chǎn)步驟，彰顯出一方樹對于科技與品質(zhì)的追求。

工廠硬核實(shí)力見證，通人展廳產(chǎn)品品質(zhì)加持工廠內(nèi)，機(jī)器轟鳴，一片繁忙而有序的景象。本次網(wǎng)絡(luò)評選活動由《中國品牌網(wǎng)》聯(lián)合主流媒體共同舉辦，不要其將參選品牌的生產(chǎn)實(shí)力、不要管理體系、產(chǎn)品質(zhì)量、售后服務(wù)、經(jīng)營情況等多方面重要因素作為評比標(biāo)準(zhǔn)

【引言】由于其在軍事國防、事情生物醫(yī)療、信息通訊、工業(yè)制造等領(lǐng)域有著巨大的潛在應(yīng)用，激光器的研發(fā)一直以來備受人們的關(guān)注。團(tuán)隊(duì)盧俊峰博士（第一作者）等人以ZnOWGM微腔為載體，微語萬資結(jié)合材料固有的高激子束縛能和壓電特性等物理優(yōu)勢，微語萬資通過外部機(jī)械應(yīng)變引起的微腔晶體內(nèi)部的離子極化，調(diào)控ZnO諧振腔本身的折射率，實(shí)現(xiàn)動態(tài)、可持續(xù)調(diào)制的激光模式輸出，并靈活地進(jìn)行模式選擇，最終實(shí)現(xiàn)單模激光輸出。

文中，錄精我們系統(tǒng)分析了應(yīng)變對ZnO折射率的影響，錄精建立了應(yīng)變與模式移動的對應(yīng)關(guān)系，獲得了超精確度的應(yīng)力傳感，相比較壓阻效應(yīng)引起的能帶移動所導(dǎo)致的自發(fā)輻射譜的移動，其光譜分辨能力提升了一個數(shù)量級?！緢D文導(dǎo)讀】圖一ZnO微米棒形貌、選0想千結(jié)構(gòu)及光學(xué)性能表征（a）ZnO微米棒SEM圖（b）單根ZnO微米棒元素Mapping（c）單根ZnO微米棒固定在柔性PET襯底上的光學(xué)照片（d）ZnO微米棒陣列X射線衍射譜，選0想千插圖：單根ZnO微米棒截面（e）ZnO微米棒陣列PL譜，插圖：激射增益區(qū)圖二激射特性與模式分析?（a-c）明場與產(chǎn)生激射前后暗場光學(xué)照片（d）不同泵浦功率下的ZnO微米棒激射譜，插圖：激射強(qiáng)度與半高寬隨泵浦功率變化關(guān)系（e）模式分析圖三尺寸依賴的激射特性與仿真分析（a）不同尺寸的激射譜（b）自由光譜范圍（FSR）與ZnO微腔的半徑的關(guān)系（c）ZnO微腔的品質(zhì)因子（Q）與ZnO微腔的半徑的關(guān)系（d）不同尺寸ZnO微腔的SEM圖（e）不同尺寸ZnO微腔中基模電場分布圖四測試光路與應(yīng)力作用下的激射特性（a）光路系統(tǒng)（b）不用應(yīng)變下的激光譜（c）不同模式的位置與施加應(yīng)變的依賴關(guān)系（d）模式位置的變化量與施加應(yīng)變的依賴關(guān)系圖五應(yīng)變參與下的PL與激光模式移動對比分析?（a）不同應(yīng)變作用下的PL譜（b）PL譜與激光模式位置變化量與施加應(yīng)變的依賴關(guān)系（c）不同應(yīng)變下的歸一化高斯擬合后的PL譜（d）不同應(yīng)變下的歸一化TE67模（e）施加應(yīng)變前后的ZnO能帶結(jié)構(gòu)圖（f）不同模式的折射率隨施加應(yīng)變變化關(guān)系圖六單模激光輸出與動態(tài)調(diào)控（a）不同應(yīng)變下的受激與自發(fā)輻射譜（b）近帶邊輻射與激光模式變化量隨施加應(yīng)變的變化關(guān)系圖（c）不同應(yīng)變下的受激與自發(fā)輻射Mapping（d）拉伸應(yīng)變（94%）與壓縮應(yīng)變（-0.96%）作用下的激射譜（e）TE17與TE16模在不同應(yīng)變下的折射率變化圖（f）TE17和TE16共振峰位與折射率關(guān)系隨施加應(yīng)變的變化圖圖七機(jī)理分析?（a）施加應(yīng)變前的增益譜線與模式位置示意圖（b）施加應(yīng)變后的增益譜線與模式位置示意圖（c）三種受力狀態(tài)（d）相對應(yīng)的暗場發(fā)光照片（e）相對應(yīng)的激光模式位置【小結(jié)】研究人員發(fā)展了一種動態(tài)調(diào)控相干光源的新策略，并可以通過調(diào)制增益區(qū)間和模式位置實(shí)現(xiàn)單模輸出。