4.經(jīng)典圖片解析再結(jié)晶晶粒內(nèi)部是沒有位錯的,資源改而其周圍可能具有很高的位錯密度,且一般成等軸狀。如果應(yīng)變速率越小,配置材料變形的時間較多,配置再結(jié)晶有充分的時間發(fā)生,而在較大的應(yīng)變速率下,雖然材料內(nèi)部貯存了一定的變性能,但是由于應(yīng)變時間短,再結(jié)晶來不及發(fā)生。圖1?鍛造TNM合金的DefRex圖(筆者數(shù)據(jù))再結(jié)晶涉及到大角度晶界的遷移,效率所以再結(jié)晶晶粒通常被大角度晶界所包裹,效率利用這一點就可以判斷某晶粒是否為再結(jié)晶晶粒。

海右今語|提高資源配置效率關(guān)鍵在改革

回復一般帶來相對均勻的微觀結(jié)構(gòu)變化,關(guān)鍵革一般不涉及大角晶界(HAGBs)在變形晶粒之間的遷移。穩(wěn)態(tài)再結(jié)晶晶粒尺寸(DS)與初始晶粒尺寸無關(guān),海右而是與決定穩(wěn)態(tài)流變應(yīng)力的T和ε有關(guān)。

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在儲存能量的驅(qū)動下,今語HAGBs的形成和遷移在變形材料中形成新的晶粒結(jié)構(gòu),這個過程叫做再結(jié)晶。

低的γSFE會促進這種離解反應(yīng),提高阻礙位錯的攀移和交叉滑移,即延緩DRV。(c)暴露60?分鐘后,資源改從B點提取XRD數(shù)據(jù)的Rietveld精修。

所有LCE-SEI樣品的XRD圖譜均以基線平坦的尖銳布拉格峰為主導,配置表明晶相占優(yōu)勢。此外,效率人們普遍認為LiF是穩(wěn)定SEI的關(guān)鍵組成部分,效率但如果LiF是一種離子絕緣體,它又如何發(fā)揮如此關(guān)鍵的作用呢?近日,美國布魯克海文國家實驗室Xiao-QingYang、EnyuanHu、西北太平洋國家實驗室JieXiao等人利用同步輻射X射線衍射來識別和區(qū)分鋰金屬負極SEI中兩個難以捉摸的組分LiH和LiF。

未經(jīng)允許不得轉(zhuǎn)載,關(guān)鍵革授權(quán)事宜請聯(lián)系[email protected]。此外,海右研究發(fā)現(xiàn)SEI中的LiF具有與體相LiF不同的結(jié)構(gòu)特征,包括較大的晶格參數(shù)和較小的晶粒尺寸(3nm)。

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