TDDI最早由人機(jī)界面廠商Synaptics提倡，合中其實(shí)早在去年國(guó)內(nèi)面板廠就嘗試大量生產(chǎn)TDDI面板，但是鑒于當(dāng)時(shí)單芯片方案技術(shù)不成熟，產(chǎn)品良率都非常低。在功能集成方面，國(guó)電將圍繞顯示芯片與觸控芯片集成的TDDIincell進(jìn)行發(fā)展，同時(shí)指紋與顯示集成也將在2017年初露端倪。隨著單芯片方案的逐漸成熟，屆慶在FHD智能手機(jī)面板中，TDDI方案將在2017年快速上量，逐漸成為主流方案。

TDDI結(jié)構(gòu)示意圖指紋集成：商專全屏化推進(jìn)隱藏式指紋，商專顯示集成是方向如上所述，全屏顯示將迎來(lái)發(fā)展元年，而全屏設(shè)計(jì)將革命性的影響智能手機(jī)的固有形態(tài)。在外觀方面，從圈AMOLED將圍繞曲面柔性進(jìn)行發(fā)展，LCD主要圍繞窄邊框、全屏幕進(jìn)行升級(jí)。

同時(shí)，內(nèi)圈對(duì)于液晶面板來(lái)講，下邊框縮短光源更近，如何做到均勻性良好，規(guī)避漏光、光柱等問題，且兼顧薄化特征，這對(duì)背光的設(shè)計(jì)提出巨大挑戰(zhàn)。

窄邊框/全屏：大融典展2017年將成全屏顯示元年那么，2017年LCD面板廠商將采用什么樣的技術(shù)和柔性AMOLED競(jìng)爭(zhēng)呢?首當(dāng)其沖的是全屏幕技術(shù)。否則，合中電極-電解液界面組分、分散的LiF粒子（100?500nm）以及MnF2層也在退化陰極的二次粒子內(nèi)部的一次粒子之間可見。

通過高性能STXM裝置（具有穩(wěn)定和精確的掃描系統(tǒng)）、國(guó)電來(lái)自光束線的高質(zhì)量X射線以及快速和可靠的重建軟件，獲得了一系列高分辨率多能量PTC圖像。需要強(qiáng)調(diào)的是，屆慶在此處所示的單個(gè)元素邊緣以及Mn、屆慶F和Ni邊緣的掃描相干衍射成像顯示了它能夠分辨多孔復(fù)合電極內(nèi)的組分分布，這對(duì)于成像降解非均勻性及其對(duì)組分分布的依賴性至關(guān)重要。

同時(shí)，商專無(wú)論是弱P處理區(qū)還是高極化區(qū)（中心低電導(dǎo)率區(qū)），F(xiàn)的摻入和Mn的溶解都很嚴(yán)重，說明了表面處理的重要性。通過XRD對(duì)PLNR的晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征，從圈它具有典型的層狀結(jié)構(gòu)，主要由六方LiTMO2相和單斜Li2MnO3相組成。